반도체 장비에서 Gas Box 구성과 관리

반도체 공정은 나노 단위의 정밀 공정으로 이루어진다. 포토, 식각(Etch), 증착(CVD/ALD), 도핑 등 다양한 공정에서 가스는 반응물·플라즈마·보조 분위기 형성 등 핵심적인 역할을 수행한다.

여기서 사용되는 가스는 99.9999% 이상의 초고순도가 기본이며, 미량의 불순물·수분만으로도 결함, 수율 저하, 전기적 신뢰성 저하로 직결된다. 따라서 가스를 저장·제어·공급하는 Gas Box (또는 Gas Cabinet / Gas Panel) 은 단순한 배관 구조가 아니라, 품질 관리 + 안전 관리 + 압력·유량·순도·온도 제어 시스템이 복합적으로 통합된 장비 내부의 핵심 모듈이다.

Gas Box의 기본 구성 요소 Gas Box는 일반적으로 아래 흐름을 기반으로 설계된다. 가스 실린더 → 1차 압력 조정 → Purifier(필터) → MFC(유량 제어) → Isolation Valve → 챔버 공급 각 요소는 다음과 같은 역할을 가진다. ① Gas Cylinder (가스 실린더) 공정...