MOS Capacitor (2)

1. Ideal vs.

Nonideal MOS Capacitor (1) Work function difference Ideal MOS capacitor에서는 metal의 work function과 silicon의 work function이 같다고 가정했다. 하지만, 실제에선 두 work function이 다른 경우가 많다.

이 경우, gate voltage를 걸어주지 않더라도 band bending이 일어나게 된다. 그러므로 어느 정도의 gate voltage를 걸어주어야 band beding이 일어나지 않고, 이 때의 gate voltage 값을 flat-band voltage라고 부른다. (2) Effect of oxide charges Ideal MOS capacitor에서는 oxide 표면이나 내부에 전하가 없다고 가정했다.

이 경우, oxide에 접하고 있는 metal에 저장된 전하의 총량이 silicon에 유도된 전하의 총량과 같다. 하지만, 실제로는 oxide에도 전하가...