반도체 공정에서 Nitride Spacer의 기능

반도체 트랜지스터가 미세화될수록 가장 중요한 요소 중 하나는 형태의 정밀 제어(Shape Control) 이다. 게이트의 폭과 높이, 그리고 소스·드레인 영역의 거리 차이가 전류 특성, 누설 전류, 전계 분포를 결정한다.

이 미세한 구조의 경계를 형성하는 핵심 재료가 바로 Spacer(스페이서) 이며, 그중에서도 가장 널리 사용되는 재료가 Silicon Nitride(Si₃N₄) 이다. Nitride Spacer는 단순한 절연막이 아니다.

그것은 게이트 구조를 보호하고, 확산 영역을 정의하며, 기계적·전기적 장벽 역할을 동시에 수행하는 정밀 엔지니어링 소재다. 특히 FinFET과 GAA(Gate-All-Around) 시대에 들어서는 Spacer의 물성 하나가 소자의 전기적 특성을 바꿀 정도로 중요해졌다.

Sidewall Spacer의 기능 알아봅니다. Spacer란 무엇인가?

Spacer는 말 그대로 ‘간격을 만드는 절연막’이다. 게이트 형성 이후, 게이트 옆면에 증착된 절연막을 이...