안녕하세요 여러분! 오늘은 반도체 공정 중 DUV 포토공정에서 사용하는 Mask에 대해서 알아보겠습니다.
Photo Mask, Mask, Reticle 등으로 불리어 집니다. Phto Mask는 노광공정에서 사용을 합니다.
반도체 회로 설계를 하고 설계한 회로를 Photo Mask에 패턴으로 만들어서 마스크 위에 새겨진 패턴을 웨이퍼 위에 축소투영을 합니다. ASML 페이스북 발췌 원래는 Photo Mask와 Reticle이 구분이 되었지만 현재는 대부분이 축소투영을 해서 그런지 Mask와 Reticle이 거의 구분 없이 사용이 됩니다.
DUV에 사용하는 마스크 제작 과정입니다. Blank Mask -> E-Beam Writer[노광]-> 현상 및 식각 -> 검사 석영[Quartz]에 금속막[크롬]코팅이 되어 있고 그 위에 PR이 도포가 되어 있는 Mask를 Blank Mask라고 합니다.
S&S TECH 홈페이지 발췌 Hoya[호야], AGC[아사이글라스], 신에츠, Ulcoat[...
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원문 링크 : Photo Mask
