#헤드라인: SK하이닉스 “EUV 공정 난제, 3대 난제는 조사량.결함.PR” ‘세미콘 코리아’서 해결책 발표 1. 탄탈룸 활용 ‘attPSM’- 빛 노출 장기화로 인한 생산성 문제 극복 2.
투과율 88% 이상 ‘펠리클’ - EUV 마스크 위에 덮개 씌워 오염방지 3. 무기물 기반 ‘포토레지스트’ - 광자 흡수 높여 균일한 회로 각인 도모 https://www.etnews.com/20210209000153 SK하이닉스 "EUV 공정 난제, 새로운 대안으로 해결해 나갈 것" SK하이닉스가 첨단 극자외선(EUV) 공정 난제를 해결하기 위한 다양한 솔루션을 제시했다.
생산성 문제를 해결할 수 있는 위상차마스크(PSM), EUV 마스크 덮개 역할을 하는 펠리클, 좁은 회로를 반듯하고 균일하게 찍... www.etnews.com #기사본문: SK하이닉스가 첨단 극자외선(EUV) 공정 난제를 해결하기 위한 다양한 솔루션을 제시했다. 생산성 문제를 해결할 수 있는 위상차마스크(PSM), EUV...
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