안녕하세요. 산업 현장의 문제를 해결하고 더 나은 미래를 만들어가는 (주)플롯퍼실리티스입니다.
오늘은 산업 현장에서 장비나 부품을 세정하는데 오염물질 제거에 어려움을 겪고 있는 고객사의 고민을 해결한 제품을 소개합니다. 반도체 제조 공정에서 장비 및 부품의 정밀 세정은 생산성과 품질을 결정하는 중요한 요소입니다.
기존에 사용하던 IPA(이소프로필 알코올), DI(초순수 물) 세정만으로 완벽한 오염물질 제거가 어려울 때가 있는데요, 특히 불소(Fluorine), 카본(Carbon) 계열의 오염물질 제거는 더욱 까다롭습니다. 현장마다 다르겠지만, 이러한 오염물질을 Fume, By-product란 용어로 사용 중인데요, 반도체 장비(챔버)에 투입된 Gas들을 이용해 플라즈마를 일으켜 공정을 수행하는 과정에서 장비 내벽이나 부품(Part's), 배관에 Gas 성분들이 증착(Depo) 되게 됩니다.
에나멜(투명) 형태로 오염물질이 증착된 부품 대부분 IPA와 DI로 오염물질 제거가 가능하지만...
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