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어레이기판을 제조하는 방법 및 포토마스크(METHOD FOR MANUFACTURING ARRAY SUBSTRATE AND PHOTOMASK)

 어레이기판을 제조하는 방법 및 포토마스크(METHOD FOR MANUFACTURING ARRAY SUBSTRATE AND PHOTOMASK)

(19)대한민국특허청(KR) (12) 등록특허공보(B1) (51) 。Int.

Cl.7 H01L 21/027 (45) 공고일자 (11) 등록번호 (24) 등록일자 2005년05월30일 10-0491990 2005년05월19일 (21) 출원번호 10-2002-0044200 (65) 공개번호 10-2003-0010559 (22) 출원일자 2002년07월26일 (43) 공개일자 2003년02월05일 (30) 우선권주장 JP-P-2001-00227314 2001년07월27일 일본(JP) (73) 특허권자 가부시끼가이샤 도시바 일본국 도꾜도 미나또꾸 시바우라 1쪼메 1방 1고 (72) 발명자 시모토시게유키 일본국사이타마현후카야시하타라정1정목9번2호가부시끼가이샤도시바 후카야공장내 우치코가슈이치 일본국사이타마현후카야시.....