비페닐 유도체, 레지스트 하층막 재료, 레지스트 하층막 형성 방법 및 패턴 형성 방법(BIPHENYL DERIVATIVE, RESIST BOTTOM LAYER MATERIAL, BOTTOM LAYER FORMING METHOD, AND PATTERNING PROCESS)

(19) 대한민국특허청(KR) (12) 등록특허공보(B1) (45) 공고일자 2016년12월01일 (11) 등록번호 10-1681796 (24) 등록일자 2016년11월25일 (51) 국제특허분류(Int. Cl.)

C07C 13/567 (2006.01) C07C 15/24 (2006.01) G03F 7/004 (2006.01) (21) 출원번호 10-2012-0030916 (22) 출원일자 2012년03월27일 심사청구일자 2014년07월03일 (65) 공개번호 10-2012-0110048 (43) 공개일자 2012년10월09일 (30) 우선권주장 JP-P-2011-069703 2011년03월28일 일본(JP) (56) 선행기술조사문헌 KR1020100044111 A WO2007097457 A1 (73).....