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포토레지스트용박리액조성물및이를이용한포토레지스트박리방법(photoresist stripping liquid compositions and a method of stripping photoresists using the same)

 포토레지스트용박리액조성물및이를이용한포토레지스트박리방법(photoresist stripping liquid compositions and a method of stripping photoresists using the same)

등록특허 10-0364885 - 1 - (19)대한민국특허청(KR) (12) 등록특허공보(B1) (51) 。Int.

Cl.7 G03F 7/42 (45) 공고일자 (11) 등록번호 (24) 등록일자 2003년05월09일 10-0364885 2002년12월03일 (21) 출원번호 10-1998-0042981 (65) 공개번호 특1999-0037078 (22) 출원일자 1998년10월14일 (43) 공개일자 1999년05월25일 (30) 우선권주장 97-299500 1997년10월16일 일본(JP) (73) 특허권자 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 일본국 가나가와껭 가와사끼시 나까하라구 나까마루꼬 150반찌 (72) 발명자 다나베 마사히또 일본 가나가와껭 후지사와시 다떼이시 1-10-4 와끼야 가즈마사 일본 가.....