삼성 중국 시안 팹 가동률 20퍼->70퍼센트

낸드증산-> 고선택비인산(HSN), 육불화부타디엔(C4F6), 삼불화질소(NF3), 낸드용 포토레지스트, 육불화텅스텐(WF6) 등 소재 사용량 증가. hsn과 c4f6는 낸드 식각 공정에 쓰이고, wf6는 증착 공정에 쓰이고 nf3는 세정공정에 쓰임. https://www.thelec.kr/news/articleView.html?idxno=26471 '낸드의 봄' 앞당겨지나…삼성전자 中시안팹 가동률 70%대 회복 - 전자부품 전문 미디어 디일렉 삼성전자 중국 낸드플래시 생산기지인 시안팹 가동률이 70%선을 회복했다.

지난해 4분기부터 시작된 낸드 가격 반등 영향이다. 낸드 가격은 지난해 10월부터 반등을 시작해 5개월째 상승세를 기록하고 있다.

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