솔브레인은, 반도체 재료사업 CVD/ALD materials - SiO₂ 박막 증착용 화합물인 TEOS를 국내 최초로 국산화한 이래, 고유전율(High-k) 물질, 확산 방지막용 Precursor 등 다양한 초고순도의 CVD/ALD Precursor들을 생산해 왔습니다. 또한 반도체 공정의 미세화에 대응해 새로운 High-k 물질, 배선 재료, 확산방지막 재료, Low-k 재료, Gap-fill 재료 등도 지속적으로 개발 및 지원하고 있습니다.
Etch & Cleaning - 고집적화, 초박막화 되어가는 반도체 공정 변화에 부응하기 위해 Multi Functional Cleaning 및 High Functional Etch 성능이 요구되고 있습니다. 솔브레인은 Low-and-High E/R Chemical과 High Selectivity Chemical 분야의 선두주자로 다양한 기능의 식각액과 세정액 솔루션을 개발 및 공급하고 있습니다.
HF/BOE - 반도체 산화막 식각과 세정에 ...
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