화학설비의 부식 관리문서 개발에 관한 기술지침 1. 목적 이 지침은 정유 및 석유화학 공장의 화학설비에서 부식으로 인한 영향을 최소화하 여 설비의 건전성을 향상시키는데 필요한 부식 관리문서의 개발절차 및 문서목록 등의 필요한 사항을 제시하는데 그 목적이 있다. 2.
적용범위 이 지침은 다음과 같은 경우에 부식성 유체로 인한 영향을 최소화하고 건전성 유 지가 필요한 환경에 있는 정유 및 석유화학 공장의 화학설비에 대하여 적용한다. (1) 화학설비에 대한 부식 관리문서(Corrosion control document, CCD)를 작성할 경 우 (2) 화학설비의 건전성 모니터링(Integrity operating window, IOW)을 수행할 경우 (3) 화학설비의 부식관리에 대한 우선순위를 결정하기 위한 자료를 개발할 경우 (4) 위험기반검사(Risk based inspection, RBI)를 수행하고 체계적인 부식 관리문서 시 스템을 구축할 경우 3. 정의 (1) 이 지침에서 사용되...
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