안녕하세요~ SEAL 전문업체 이재영 대리 입니다. 오늘은 최근에 많은 견적/발주가 있었던 "사례"에 대한 내용입니다.
저희회사는 "NS TOOL"과 "MST" 대리점으로, 전자기기, 반도체, 항공우주, 방산업체, 렌즈/광학기기와 임플란트, 자동차, 항공분야 수많은 업체와 거래를 하고 있습니다. 그중에서 반도체 제조공정에서, 나오는 독한가스 부분때문에, SEAL 전문업체인 저희에게 많은 의뢰가 들어 옵니다.
반도체 제조공정시, 발생하는 가스 공정 단계 사용/발생 가스 종류 특징 및 용도 증착 (CVD, PVD) 실란(SiH₄), 암모니아(NH₃) 박막 증착(CVD), 질화막 형성. 수소(H₂), 아르곤(Ar), 헬륨(He) 플라즈마 반응, 스퍼터링, 박막 안정화.
삼불화붕소(BF₃), 삼불화인(PF₅) 도핑용 가스. 특정 CVD 반응에서 사용.
에칭 (Etching) 염소(Cl₂), 불소계 가스(CF₄, SF₆) 플라즈마 에칭. 금속과 산화막 제거.
불산(HF), 삼염화붕소(BCl₃...
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