High NA EUV란? Numerical Aperture란? ASML TWINSCAN EXE: 5000

2nm보다 더 낮은 공정으로 칩을 만들려면 어떻게 해야할까? 최첨단 반도체 Foundry들은 올해부터 첫 번째 프로토타입의 High NA (0.55NA) EUV 장비 즉, 네덜란드 ASML 사의 TWINSCAN EXE:5000 에 접근할 수 있게 되었습니다. https://youtu.be/3PCtf1ONYMU?

si=sP1W35se1X3OoWWg 위 장비를 통해 만들어진 칩은 2025년에서 2026년 정도에 소비자들에게 전달 될 것으로 예상됩니다. 1대당 가격은 3~4억달러. 5천억원정도로 예상됩니다. 이마저도 생산대수가 한정적이라, 미국에만 가장 먼저 인도었습니다.

거두절미하고, ASML의 Public 자료를 보시죠. Reference: ASML ASML의 자료에 따르면, EUV공정은7~2nm에서 낮은 process complexity를 보이고, High NA EUV(0.55NA)는 2~1nm 공정에서 안정적인 것으로 예상하고 있습니다.

중국에서는 DUV로 7nm 반도체 양산을 하고...