고속 단면 랩핑 머신 (래핑, 폴리싱, CMP 시스템)

STC-610 LED 사파이어 및 SiC 웨이퍼 용으로 새롭게 개발 된 2축 고속 랩핑 머신 단면 고속 연마 기계 STC-610은 Ø610의 연반 정반이 최고 300rpm으로 회전하며, Ø250mm까지의 작업판을 사용할 수 있습니다. 두 개의 가공 축을 갖추고 있으며, 최대 300kg의 압력을 가할 수 있습니다.

자동 홈 절단 및 페이싱 기능, 에어 실린더 압력 기능, 진공 척 기능, 정반 회전 속도의 자동 전환 장치, 냉각 장치 등 다양한 기능을 갖추고 있습니다. 랩핑, 폴리싱, CMP시스템 특징 ▷ 고속 회전 기구 Ø610mm의 연마 정반이 최고 300rpm으로 회전하여 고속 연마를 실현했습니다.

사파이어 및 SiC와 같이 고경도 웨이퍼에도 탁월한 연마율을 얻을 수 있습니다. ▷ 가공 축 지지 기구 강제 구동 회전 기구가 장착된 2개의 가공 축 지지를 갖추고 있어, 높은 연마 압력 조건에서도 안정적인 회전으로 연마 작업을 수행할 수 있습니다. ▷ 에어 실린더 압력 기구 최대 3...