포토레지스트(Photoresist)는 반도체 제조 과정에서 핵심적으로 사용되는 감광성 물질입니다. 리소그래피 공정에서 빛에 반응해 특정 패턴을 형성하는 데 사용되며, 반도체 웨이퍼에 미세한 회로를 그리는 과정을 가능하게 합니다.
포토레지스트는 빛이나 전자 빔에 노출되면 화학적 성질이 변화하여, 이후 식각 공정을 통해 원하는 패턴을 구현할 수 있게 도와줍니다. 포토레지스트는 크게 두 종류로 나뉩니다: 양성 포토레지스트: 빛에 노출된 부분이 화학적으로 약해져서 제거되는 방식입니다.
즉, 노출된 부분이 식각되며, 원하는 패턴을 웨이퍼에 새길 수 있습니다. 음성 포토레지스트: 빛에 노출된 부분이 강해져서 노출되지 않은 부분이 제거되는 방식입니다.
노출된 부분은 더 강하게 남아 있으며, 이를 이용해 패턴을 만들 수 있습니다. 포토레지스트 공정의 주요 단계: 코팅: 웨이퍼에 포토레지스트 물질을 고르게 얇게 도포합니다.
노광: 리소그래피 장비를 이용해 포토레지스트에 회로 패턴을 노출시킵니다. 현...
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원문 링크 : 리소그래피 공정 필수 요소 포토레지스트
