EUV 장비 구조 완전 해부, 소부장 전략품목

중소기업전략기술로드맵에서 관심 분야의 정보를 공유하고자 합니다. EUV 장비 구조 완전 해부 ASML 중심으로 본 반도체 산업의 절대 권력 구조 EUV(극자외선) 노광 장비는 현재 반도체 산업에서 가장 높은 기술 진입장벽을 가진 시스템이다.

이 장비를 사실상 독점하고 있는 기업은 ASML이다. EUV 장비는 단순한 장비가 아니라, 광학·플라즈마·진공·정밀제어가 결합된 초복합 시스템이다.

구조를 이해하면 왜 이 산업이 소수 기업에 의해 지배되는지 명확해진다. EUV 장비의 기본 개념 EUV는 13.5nm 파장의 극자외선을 이용해 웨이퍼에 회로를 그리는 기술이다.

기존 DUV 대비 훨씬 짧은 파장을 사용하기 때문에 미세 공정 구현이 가능하다. 하지만 문제는 이 빛이 공기에서 흡수된다는 것이다.

그래서 EUV 장비는 완전히 다른 구조를 가진다. 1. 광원 시스템 (Light Source) EUV의 시작이자 가장 어려운 영역 EUV 장비의 핵심은 빛을 만드는 것부터 시작된다.

방식은 매우 ...